Un reportage de Reuters indique qu'un prototype chinois de machine de lithographie à ultraviolet extrême construit par d'anciens ingénieurs d'ASML est désormais en cours de tests à Shenzhen, après que Reuters a révélé que le projet avait impliqué des anciens employés d'ASML utilisant de faux noms et des pièces récupérées.Le prototype serait capable de générer la lumière EUV mais ne produit pas encore de puces; la Chine vise une production nationale basée sur l'EUV d'ici 2028, bien que certains experts estiment 2030 plus réaliste, tandis qu'une start-up chinoise de puces a vu son cours bondir de 693 pour cent et que Xi Jinping pousse à l'autosuffisance.